鑫南光小編為大家介紹四川精密光刻機產品介紹：

一、主要用途：

本設備用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件研制和生產。找平機構穩(wěn)定性高，找平力小。且應對特殊基片表現(xiàn)卓越，如易碎的砷化鉀、磷化銦等基片，以及非圓形、小型基片時，可憑借找平力小的優(yōu)勢，能不損壞基片順利曝光且滿足曝光需求。

二、主要技術參數(shù) ：

1.適用于對Φ4″以下只需一次曝光的各種基片進行曝光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采用200W直流汞燈，曝光頭光束不均勻性≤±6%（Φ100mm范圍以內）。

3.采用時間繼電器（可調節(jié)）控制曝光頭的快門。

4.具有兩個真空密著承片臺（一個在曝光時，另一個可進行上下片的操作），根據(jù)用戶需求，我公司可制作圓形或方形真空密著承片臺。

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